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The Italian National Project “FIRB-EUVL” is introduced and discussed. This project includes the realization of a micro-exposure-tool and the up-grading of the National knowledge on EUV-lithography in all its aspects, from plasma sources (both high power sources and auxiliary sources for tests), debris mitigation, multilayer mirrors, and masks. The micro-exposure-tool, which is under development, will be operated at a wavelength slightly different from the international standard of 13.5 nm in order to allow the use of an innovative debris mitigation system. A novel application of EUVL to photonics is also reported.
Reale, A., Baldacchini, G., Baldesi, A., Bellecci, C., Bollanti, S., Bonfigli, F., et al. (2006). The Italian FIRB project on EUV lithography. In International symposium on extreme ultraviolet lithography: 15-18 October 2006, Barcelona, Spain [on-line].
The Italian National Project “FIRB-EUVL” is introduced and discussed. This project includes the realization of a micro-exposure-tool and the up-grading of the National knowledge on EUV-lithography in all its aspects, from plasma sources (both high power sources and auxiliary sources for tests), debris mitigation, multilayer mirrors, and masks. The micro-exposure-tool, which is under development, will be operated at a wavelength slightly different from the international standard of 13.5 nm in order to allow the use of an innovative debris mitigation system. A novel application of EUVL to photonics is also reported.
Reale, A., Baldacchini, G., Baldesi, A., Bellecci, C., Bollanti, S., Bonfigli, F., et al. (2006). The Italian FIRB project on EUV lithography. In International symposium on extreme ultraviolet lithography: 15-18 October 2006, Barcelona, Spain [on-line].
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/2108/33683
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simulazione ASN
Il report seguente simula gli indicatori relativi alla propria produzione scientifica in relazione alle soglie ASN 2023-2025 del proprio SC/SSD. Si ricorda che il superamento dei valori soglia (almeno 2 su 3) è requisito necessario ma non sufficiente al conseguimento dell'abilitazione. La simulazione si basa sui dati IRIS e sugli indicatori bibliometrici alla data indicata e non tiene conto di eventuali periodi di congedo obbligatorio, che in sede di domanda ASN danno diritto a incrementi percentuali dei valori. La simulazione può differire dall'esito di un’eventuale domanda ASN sia per errori di catalogazione e/o dati mancanti in IRIS, sia per la variabilità dei dati bibliometrici nel tempo. Si consideri che Anvur calcola i valori degli indicatori all'ultima data utile per la presentazione delle domande.
La presente simulazione è stata realizzata sulla base delle specifiche raccolte sul tavolo ER del Focus Group IRIS coordinato dall’Università di Modena e Reggio Emilia e delle regole riportate nel DM 589/2018 e allegata Tabella A. Cineca, l’Università di Modena e Reggio Emilia e il Focus Group IRIS non si assumono alcuna responsabilità in merito all’uso che il diretto interessato o terzi faranno della simulazione. Si specifica inoltre che la simulazione contiene calcoli effettuati con dati e algoritmi di pubblico dominio e deve quindi essere considerata come un mero ausilio al calcolo svolgibile manualmente o con strumenti equivalenti.
