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Rosei F., Motta N., Sgarlata A., Capellini G., & Boscherini F. (2001). Erratum: Formation of the wetting layer in Ge/Si(111) studied by STM and XAFS (Thin Solid Films (2000) 369 (29-32) PII: S0040609000008294). THIN SOLID FILMS, 397(2009/02/01 00:00:00.000), 296.
| Tipologia: | Articolo su rivista |
| Citazione: | Rosei F., Motta N., Sgarlata A., Capellini G., & Boscherini F. (2001). Erratum: Formation of the wetting layer in Ge/Si(111) studied by STM and XAFS (Thin Solid Films (2000) 369 (29-32) PII: S0040609000008294). THIN SOLID FILMS, 397(2009/02/01 00:00:00.000), 296. |
| Lingua: | English |
| Settore Scientifico Disciplinare: | Settore FIS/03 - Fisica della Materia |
| Revisione (peer review): | Sì, ma tipo non specificato |
| Tipo: | Articolo |
| Rilevanza: | Rilevanza internazionale |
| Digital Object Identifier (DOI): | http://dx.doi.org/10.1016/S0040-6090(01)01294-9 |
| Stato di pubblicazione: | Pubblicato |
| Data di pubblicazione: | 2001 |
| Titolo: | Erratum: Formation of the wetting layer in Ge/Si(111) studied by STM and XAFS (Thin Solid Films (2000) 369 (29-32) PII: S0040609000008294) |
| Autori: | |
| Autori: | Rosei F.; Motta N.; Sgarlata A.; Capellini G.; Boscherini F. |
| Appare nelle tipologie: | 01 - Articolo su rivista |
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http://hdl.handle.net/2108/57218
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