Kamath, A., Ryzhak, D., Rodrigues, A., Kafi, N., Golz, C., Spirito, D., et al. (2024). Controlled integration of InP nanoislands with CMOS-compatible Si using nanoheteroepitaxy approach. MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 182 [10.1016/j.mssp.2024.108585].

Controlled integration of InP nanoislands with CMOS-compatible Si using nanoheteroepitaxy approach

Persichetti, Luca;
2024-01-01

2024
Pubblicato
Rilevanza internazionale
Articolo
Esperti anonimi
Settore FIS/03
English
Con Impact Factor ISI
Kamath, A., Ryzhak, D., Rodrigues, A., Kafi, N., Golz, C., Spirito, D., et al. (2024). Controlled integration of InP nanoislands with CMOS-compatible Si using nanoheteroepitaxy approach. MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 182 [10.1016/j.mssp.2024.108585].
Kamath, A; Ryzhak, D; Rodrigues, A; Kafi, N; Golz, C; Spirito, D; Skibitzki, O; Persichetti, L; Schmidbauer, M; Hatami, F
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